[实用新型]用于超光谱成像系统中的消二级光谱集成滤光片

摘要

本专利公开了一种用于超光谱成像系统中的消二级光谱集成滤光片，通过在同一光学基片划分若干区域制备相应谱段的前截止消二级光谱滤光片单元，实现超光谱光学成像系统宽波段范围内，由于光栅分光引起的二级光谱的抑制与消除。其中，集成滤光片区域划分的个数以及各滤光片单元的光谱抑制范围由成像光学系统的光谱覆盖范围来确定。为保证成像光谱的连续性和各子滤光片光谱独立性，采用高精度掩模技术配合各滤光片单元的膜层制备。该消二级光谱集成滤光片具有结构紧凑、信噪比高、能量高效利用等特点。

主权项

一种用于超光谱成像系统中的消二级光谱集成滤光片，其结构为：在光学基片(1)的一面上制备整个光谱仪工作波段的宽光谱增透膜系(2)，在另一面上制备消二级光谱集成滤光片膜系(3)，其特征在于，所述的消二级光谱集成滤光片膜系(3)的结构如下：在光学基片(1)上划分n个几何区域，在这n个几何区域中分别针对不同光学波段进行二级光谱的抑制；其中：n＝[log₂(λ_L/λ_S)]+1式中：λ_L和λ_S分别为光谱波段的最长波长和最短波长；[]为取整符号；各几何区域二级光谱的抑制谱段为：第1区域谱段波长范围：λ_L～λ₁，λ₁≤2λ_L；第2区域谱段波长范围：λ₁～λ₂，λ₂≤2λ₁；……第n‑1区域谱段波长范围：λ_n‑2～λ_n‑1，λ_n‑1≤2λ_n‑2；第n区域谱段波长范围：λ_n‑1～λ_L。