[实用新型]光成像系统及具有该光成像系统的投影成像系统有效

专利信息
申请号: 201420282679.3 申请日: 2014-05-29
公开(公告)号: CN203930303U 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 张佳;康栋;李关 申请(专利权)人: 深圳市矽韦氏科技有限公司
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;G02B3/00
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 518000 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型适用于光学设备技术领域,公开了一种光成像系统及具有该光成像系统的投影成像系统。光成像系统包括第一、第二微透镜阵列,透镜使用凸透镜形式,第一、二微透镜阵列相向间距设置或背向间距设置,各第一、二微凸透镜阵列的结构参数相同且焦距相等,第一、第二微凸透镜的光轴一一对应并重合,第一、第二微凸透镜阵列之间的距离为第一、第二微凸透镜的焦距的两倍或同一单位量级。投影成像系统包括光投射系统、反射成虚像系统和上述光成像系统。本实用新型提供的光成像系统及具有该光成像系统的投影成像系统,其可获得高亮度、高对比度、高清晰度、高分辨率的图像,避免了激光散斑效应,图像、字体边缘清晰,显像效果佳。
搜索关键词: 成像 系统 具有 投影
【主权项】:
一种光成像系统,包括第一微凸透镜阵列和第二微凸透镜阵列,其特征在于,所述第一微凸透镜、第二微凸透镜相向间距设置或背向间距设置,各所述第一微凸透镜、第二微凸透镜的结构参数相同且焦距相等,所述第一微凸透镜阵列中各所述第一微凸透镜的光轴和所述第二微凸透镜阵列中第二微凸透镜的光轴一一对应并重合,第一微凸透镜阵列和第二微凸透镜阵列之间的距离为第一微凸透镜、第二微凸透镜的焦距的两倍或同一单位量级。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市矽韦氏科技有限公司,未经深圳市矽韦氏科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420282679.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top