[发明专利]改善密纬剪花面料稀密纹的方法及通过该方法织成的面料有效
| 申请号： | 201410383135.0 | 申请日： | 2014-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN104153184A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 张贤国 | 申请（专利权）人： | 江苏顺远纺织科技有限公司 |
| 主分类号： | D06H7/14 | 分类号： | D06H7/14 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人： | 滑春生 |
| 地址： | 226500 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种改善密纬剪花面料稀密纹的方法及通过该方法织成的面料，通过计算面料花部纬密的增幅，根据地纬和花纬的排列比来调整纬密进行织造，本发明的方法在不改变原来设备的情况下，通过调整工艺参数，达到消除密纬剪花面料表面稀密纹的效果，操作简单，品种适应性强，适用于各种花纹效果的密纬剪花面料；本发明的面料外观质量符合要求，同时通过纬密的调整，改善的面料的内在质量，提高面料的劈裂强度。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 密纬剪花 面料 稀密纹 方法 通过 织成 | ||
【主权项】：
一种改善密纬剪花面料稀密纹的方法，其特征在于：包括以下步骤：（1）计算纹样的高度：根据每个纹样中的地纬的根数与原上机纬密来计算纹样高度，计算公式如下：（2）计算纹样的实际纬密：根据一个纹样中地纬与花纬的总根数与步骤（1）得到的纹样高度来计算纹样的实际纬密，计算公式如下：（3）计算纬密增幅：根据原上机纬密与步骤（2）得到的纹样的实际纬密得到纹样处纬密的增幅，计算公式如下： （4）降低纬密进行织造：在地部与花部交界处面料纬密开始增加，根据步骤（3）得到的纬密增幅，降低纹样区域内的原上机纬密。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏顺远纺织科技有限公司，未经江苏顺远纺织科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410383135.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
