[发明专利]液晶透镜成像装置及液晶透镜成像方法有效

专利信息
申请号: 201410367919.4 申请日: 2014-07-29
公开(公告)号: CN105301863B 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 崔春晖;叶茂 申请(专利权)人: 深圳市墨克瑞光电子研究院
主分类号: G02F1/29 分类号: G02F1/29
代理公司: 深圳市凯达知识产权事务所44256 代理人: 任转英
地址: 518053 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提出了一种液晶透镜成像装置及成像方法。其中,液晶透镜成像方法包括驱动液晶透镜,使其在对焦状态下生成对焦图像,在非对焦状态下生成散焦图像,利用所述散焦图像对所述对焦图像进行处理而获得新对焦图像;根据所述对焦图像和所述散焦图像的相关性获知所述新对焦图像的噪点和纹理区域,从而形成噪点位置图像和纹理位置图像;基于所述噪点位置图像去除所述新对焦图像的噪点;以及基于所述纹理位置图像去除所述新对焦图像的纹理区域的噪声。本发明的液晶透镜成像装置及成像方法利用对焦图像和散焦图像之间的相关性,高效而准确地提取出显噪点和纹理区域的位置,并分别对显噪点和纹理区域做去噪处理,最终生成高信噪比、高对比度的图像。
搜索关键词: 液晶 透镜 成像 装置 方法
【主权项】:
一种液晶透镜成像方法,其特征在于,包括:驱动液晶透镜,使其在对焦状态下生成对焦图像,在非对焦状态下生成散焦图像,利用所述散焦图像对所述对焦图像进行处理而获得新对焦图像;根据所述对焦图像和所述散焦图像的相关性获知所述新对焦图像的噪点和纹理区域,从而形成噪点位置图像和纹理位置图像;基于所述噪点位置图像去除所述新对焦图像的噪点;以及基于所述纹理位置图像去除所述新对焦图像的纹理区域的噪声。
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