[发明专利]用于光电编码器的标尺有效
| 申请号： | 201410354003.5 | 申请日： | 2014-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN104236603B | 公开（公告）日： | 2018-04-17 |
| 发明（设计）人： | 前田不二雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社三丰 |
| 主分类号： | G01D5/347 | 分类号： | G01D5/347 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于光电编码器的标尺，包括标尺基板和在标尺基板上以预定节距形成的反射膜。反射膜的表面形成反射面。低反射面通过蚀刻反射膜之间标尺基板而形成。因此，可提供一种标尺，其成本较低且具有令人满意的生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光电 编码器 标尺 | ||
【主权项】：
一种形成具有低反射面和光反射面的标尺的方法，该方法包括：在基板的抛光面上形成与标尺基板粘合的并具有比低反射面高的反射率的反射膜；在垂直于标尺的测量方向的方向上以固定间隔蚀刻一部分反射膜，以形成光反射面；以及蚀刻所述反射膜，随后进一步蚀刻所述基板的抛光面被暴露的区域，以形成所述低反射面；其特征在于，所述多个反射膜具有25nm‑200nm的厚度，并且在施加用于蚀刻所述反射膜的抗蚀剂之前，将所述反射膜直接形成在所述基板的所述抛光面上。
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