[发明专利]一种基于笼型倍半硅氧烷构建的抗反射涂层及其制备方法与应用

摘要

本发明属于纳米杂化复合材料技术领域，公开了一种基于笼型倍半硅氧烷构建的抗反射涂层及其制备方法与应用。所述抗反射涂层是以十甲基丙烯酰氧丙基笼型倍半硅氧烷和八氨基苯基笼型倍半硅氧烷构建底层反应涂层后预固化；以含氟丙烯酸酯预聚物和八甲基丙烯酰氧丙基笼型倍半硅氧烷构建表层涂层，然后将两层涂层在一定条件下共固化，利用两层涂层的反应体积收缩率的不同引起应力，制备的抗反射涂层具有纳米岛状结构，涂层的抗反射性能得到显著提高，可广泛应用于对抗反射性能有要求的光学器件。

主权项

一种基于笼型倍半硅氧烷构建的抗反射涂层的制备方法，其特征在于：具体制备步骤如下：(1)将十甲基丙烯酰氧丙基笼型倍半硅氧烷和八氨基苯基笼型倍半硅氧烷按质量比为1：1至50：1混合得到底层旋涂物，加入质量比为1：1的甲醇‑丙酮混合溶剂和Aza‑Michael加成反应催化剂混合均匀得到底层旋涂液；取上述底层旋涂液置于透明基质中央，利用旋涂仪旋涂得到80～90nm厚均匀透明底层涂层薄膜；将涂有底层涂层薄膜的透明基质放置于真空干燥箱中，80℃条件下预固化15～30min得到底层涂层；(2)表层涂层薄膜制备：在反应器中加入含氟丙烯酸酯单体及过氧化苯甲酰，80～90℃条件下反应30～60min得到含氟丙烯酸酯预聚物，将八甲基丙烯酰氧丙基笼型倍半硅氧烷加入预聚物中，利用超声使八甲基丙烯酰氧丙基笼型倍半硅氧烷分散溶解得到表层旋涂液；将表层旋涂液置于步骤(1)中底层涂层中央，利用旋涂仪旋涂得到100～110nm厚均匀透明表层薄膜；(3)将步骤(2)得到的具有底层涂层和表层涂层薄膜的透明基质放置于真空干燥箱中，在80℃条件下共固化6～12h，然后升温至150℃继续共固化12～24h，即得到基于笼型倍半硅氧烷构建的抗反射涂层。