[发明专利]一种窄分子量分布聚硅氧烷的制备方法有效
| 申请号： | 201410191086.0 | 申请日： | 2014-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN103980495B | 公开（公告）日： | 2017-02-01 |
| 发明（设计）人： | 孔杰;周冬;凌君;骆春佳;于震;黄勇 | 申请（专利权）人： | 西北工业大学 |
| 主分类号： | C08G77/20 | 分类号： | C08G77/20;C08G77/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 710072 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种窄分子量分布聚硅氧烷的制备方法，其方法为通过改变1，3，5‑三乙烯基‑1，3，5‑三甲基环三硅氧烷(VD3)和阴离子引发剂的投料比，调整反应时间及反应温度，控制单体的转化率，结合阴离子开环聚合的优势，开环聚合可制备得到分子量分布(Mw/Mn≤1.2)极窄的聚硅氧烷，分子量在3000～30000可调。上述制备方法具体为向20ml的安倍瓶加入VD3单体0.5～2.0ml溶济单体，然后加入新蒸四氢呋喃1.4ml，搅拌约20～30min，在冰水浴中恒定温度，加入正丁基锂溶液0.1～0.6ml达到预定反应时间后，用无水冰甲醇沉淀出聚合物。本发明技术中，由于阴离子开环聚合过程中，单体引发剂投料比可调、反应温度可调、反应时间可控，可以通过控制单体转化率，得到分子量分布极窄、分子量可调的聚硅氧烷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分子量 分布 聚硅氧烷 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种窄分子量分布聚硅氧烷的制备方法，其特征在于：该方法为：通过改变1，3，5‑三乙烯基‑1，3，5‑三甲基环三硅氧烷(VD3)和阴离子引发剂的投料比，调整反应时间及反应温度，控制单体的转化率，结合阴离子开环聚合的优势，开环聚合可制备得到分子量分布Mw/Mn≤1.2极窄的聚硅氧烷，分子量在3000～30000可调；所述制备方法具体为：向20ml的安倍瓶加入VD3单体0.5～2.0ml，然后加入新蒸四氢呋喃1.4ml，搅拌20～30min，在冰水浴中恒定温度，加入正丁基锂溶液0.1～0.6ml达到预定反应时间后，用无水冰甲醇沉淀出聚合物。
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