[发明专利]一种光学防伪元件及制备光学防伪元件的方法

摘要

本发明提供一种制备光学防伪元件的方法，其制备误差小、可靠性高、工艺可控性强，该方法包括在基材的同一表面上形成第一表面浮雕结构和第二表面浮雕结构；在所述第一表面浮雕结构和所述第二表面浮雕结构上形成镀层；在所述镀层上形成保护层，其中所述第一表面浮雕结构的起伏高度大于所述保护层的厚度，而所述第二表面浮雕结构的起伏高度不大于所述保护层的厚度，从而使得所述保护层仅能遮盖形成在所述第一表面浮雕结构上的镀层的一部分并能够遮盖形成在所述第二表面浮雕结构上的全部镀层；以及将形成所述保护层的所述光学防伪元件置于能够与所述镀层反应的环境中进行反应，直到形成在所述第一表面浮雕结构上的镀层部分或全部反应而形成在所述第二表面浮雕结构上的镀层尚未反应为止。

主权项

一种制备光学防伪元件的方法，该方法包括：在基材的同一表面上形成第一表面浮雕结构和第二表面浮雕结构；在所述第一表面浮雕结构和所述第二表面浮雕结构上形成镀层；在所述镀层上形成保护层，其中所述第一表面浮雕结构的起伏高度大于所述保护层的厚度，而所述第二表面浮雕结构的起伏高度不大于所述保护层的厚度，从而使得所述保护层仅能遮盖形成在所述第一表面浮雕结构上的镀层的一部分并能够遮盖形成在所述第二表面浮雕结构上的全部镀层，其中，所述第一表面浮雕结构上未被所述保护层遮盖的镀层的面积之和与所述第一表面浮雕结构上的镀层总面积的比值大于10％；以及将形成所述保护层的所述光学防伪元件置于能够与所述镀层反应的环境中进行反应，直到形成在所述第一表面浮雕结构上的镀层部分或全部反应而形成在所述第二表面浮雕结构上的镀层尚未反应为止。