[发明专利]一种紫外成像仪深度截止带外光谱杂光的方法无效
| 申请号： | 201410120302.2 | 申请日： | 2014-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN104019892A | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | 王淑荣;黄煜;杨小虎 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01J3/02 | 分类号： | G01J3/02;G02B1/11;G02B1/10;G02B5/20 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 张伟 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种紫外成像仪深度截止带外光谱杂光的方法，包括步骤：将大气辐射通过反射光学原件反射进紫外成像仪内部；经过多个透射光学元件的透射；经过窄带滤光片进行过滤；其中，每个所述透射光学元件上镀有工作波段内96%以上透射率，工作波段外反射率下降5～10倍的紫外增透膜；所述反射光学原件镀有工作波段内98%以上，工作波段外透射率下降5～10倍反射率的紫外高反膜；所述窄带滤光片紫外工作波段外截止率至少为4OD。本发明的紫外成像仪深度截止带外光谱杂光的方法，将以往控制带外杂光主要依赖的窄带滤光片技术分散到反射、透射及滤光片元件上，三者共同应用，在保证系统紫外工作波段内信号的同时，极大地降低带外杂光影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 成像 深度 截止 光谱 方法 | ||
【主权项】：
一种紫外成像仪深度截止带外光谱杂光的方法，其特征在于，包括以下步骤：首先，将大气辐射通过反射光学原件反射进紫外成像仪内部；然后，经过多个透射光学元件的透射；再然后，经过窄带滤光片进行过滤；其中，每个所述透射光学元件上镀有工作波段内96%以上透射率，工作波段外反射率下降5～10倍的紫外增透膜；所述反射光学原件镀有工作波段内98%以上，工作波段外透射率下降5～10倍反射率的紫外高反膜；所述窄带滤光片紫外工作波段外截止率至少为4OD。
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