[发明专利]非达霉素晶型II及其制备方法有效
申请号: | 201410119970.3 | 申请日: | 2014-03-28 |
公开(公告)号: | CN103897003A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 张雪霞;任风芝;段宝玲;陈书红;李晓露;佟杰;王海燕;李宁;李丽红;胡卫国 | 申请(专利权)人: | 华北制药集团新药研究开发有限责任公司 |
主分类号: | C07H17/08 | 分类号: | C07H17/08;C07H1/06;A61K31/7048;A61P31/04 |
代理公司: | 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 | 代理人: | 苏艳肃 |
地址: | 050015 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了非达霉素晶型II及其制备方法。该晶型的X射线粉末衍射光谱中在7.04°、15.87°、19.14°、20.46°和22.95±0.2°2θ具有X-射线粉末衍射峰。本发明得到的晶型稳定,晶型的制备方法简单,可操作性强,适合工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 霉素 ii 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
非达霉素晶型II,其特征在于,所述晶型的X‑射线粉末衍射图中在7.04°、15.87°、19.14°、20.46°和22.95±0.2°2θ具有X‑射线粉末衍射峰。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华北制药集团新药研究开发有限责任公司,未经华北制药集团新药研究开发有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410119970.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:安全阀型式试验流量测量装置
- 下一篇:一种抗单粒子效应的电流镜