[发明专利]低水垢潜在性水处理有效
申请号: | 201410053593.8 | 申请日: | 2007-06-22 |
公开(公告)号: | CN103739044A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | J.D.吉福德;J.W.阿巴;E.弗里迪纳;A.D.贾;梁荔乡;王璐 | 申请(专利权)人: | 西门子工业公司 |
主分类号: | C02F1/469 | 分类号: | C02F1/469;B01D61/48 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周铁;林森 |
地址: | 美国乔*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了具有低水垢潜在性的具有至少一个消耗室和至少一个浓缩室的电去离子装置及在具有消耗室和浓缩室的电去离子装置中处理水的方法。所述装置的特征至于,至少一个浓缩室包含由阴离子交换介质构成的第一浓缩层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的第二浓缩层,其中所述第二浓缩层位于第一浓缩层下游,其特征还在于,至少一个消耗室包含由阴离子交换介质构成的第一消耗层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的第二消耗层,其中所述第二消耗层位于第一消耗层下游,且其中所述由阴离子交换介质构成的层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的层在相邻的室中不完全取齐。 | ||
搜索关键词: | 水垢 潜在 水处理 | ||
【主权项】:
具有至少一个消耗室和至少一个浓缩室的电去离子装置,其特征在于,至少一个浓缩室包含由阴离子交换介质构成的第一浓缩层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的第二浓缩层,其中所述第二浓缩层位于第一浓缩层下游,其特征还在于,至少一个消耗室包含由阴离子交换介质构成的第一消耗层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的第二消耗层,其中所述第二消耗层位于第一消耗层下游,且其中所述由阴离子交换介质构成的层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的层在相邻的室中不完全取齐。
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