[发明专利]低水垢潜在性水处理有效

专利信息
申请号: 201410053593.8 申请日: 2007-06-22
公开(公告)号: CN103739044A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: J.D.吉福德;J.W.阿巴;E.弗里迪纳;A.D.贾;梁荔乡;王璐 申请(专利权)人: 西门子工业公司
主分类号: C02F1/469 分类号: C02F1/469;B01D61/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 周铁;林森
地址: 美国乔*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了具有低水垢潜在性的具有至少一个消耗室和至少一个浓缩室的电去离子装置及在具有消耗室和浓缩室的电去离子装置中处理水的方法。所述装置的特征至于,至少一个浓缩室包含由阴离子交换介质构成的第一浓缩层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的第二浓缩层,其中所述第二浓缩层位于第一浓缩层下游,其特征还在于,至少一个消耗室包含由阴离子交换介质构成的第一消耗层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的第二消耗层,其中所述第二消耗层位于第一消耗层下游,且其中所述由阴离子交换介质构成的层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的层在相邻的室中不完全取齐。
搜索关键词: 水垢 潜在 水处理
【主权项】:
具有至少一个消耗室和至少一个浓缩室的电去离子装置,其特征在于,至少一个浓缩室包含由阴离子交换介质构成的第一浓缩层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的第二浓缩层,其中所述第二浓缩层位于第一浓缩层下游,其特征还在于,至少一个消耗室包含由阴离子交换介质构成的第一消耗层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的第二消耗层,其中所述第二消耗层位于第一消耗层下游,且其中所述由阴离子交换介质构成的层和含阴离子交换介质和阳离子交换介质的混合物的层在相邻的室中不完全取齐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子工业公司,未经西门子工业公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410053593.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top