[发明专利]一种涂层导体用Ni-W合金自生复合基带的制备方法无效
申请号: | 201410023556.2 | 申请日: | 2014-01-17 |
公开(公告)号: | CN103805811A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 王轶农 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C22C19/03 | 分类号: | C22C19/03;C22C1/02;C22F1/10 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 赵连明;梅洪玉 |
地址: | 116024*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明属于高温涂层超导体用金属基带制备技术领域,公开了一种涂层导体用镍钨合金自生复合基带的制备方法。采用真空感应熔炼方法获得W原子百分含量为7%~9%的Ni-W合金熔体;采用离心铸造方法获得圆筒形NiW合金复合铸锭。将圆筒形铸锭单边切开,然后辗平成板状铸锭;对板状铸锭进每道次变形量3~15%、总变形量大于96%的冷轧变形,得到厚度为50~200μm的冷轧基带;冷轧基带在气体保护或真空下于1050~1250℃温度下退火0.5~3h,得到低W含量一侧具有强立方织构的Ni-W合金复合基带。本发明的基带内无物理结合界面,机械强度高,磁性低,立方织构含量高,可制备长基带,适于规模化工业生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 涂层 导体 ni 合金 自生 复合 基带 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种涂层导体用Ni‑W合金自生复合基带的制备方法,其特征在于如下步骤:(1)原料配比与熔炼将金属Ni和金属W,按W原子百分含量为7~9%的配比,在真空条件下于1500~1700℃熔炼5~20min,获得Ni‑W合金熔体;(2)自生复合铸锭的制备采用离心铸造方法将上述的Ni‑W合金熔体制成圆筒形铸锭,离心机转速为500‑2000rpm,离心铸造模具温度为室温至800℃;将圆筒形铸锭单边切开,然后辗平成板状铸锭;(3)自生复合铸锭的轧制变形将上述板状铸锭轧制变形,每次变形量为3~15%,总变形量大于96%,得到厚度为50~200μm的冷轧基带;(4)冷轧基带的退火处理将上述冷轧基带在Ar/H2混合气体保护下或真空条件下于1050~1250℃温度下退火0.5~3h,得到涂层导体用Ni‑W合金自生复合基带。
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