[发明专利]配备有微电极的电解槽有效
| 申请号： | 201380057692.7 | 申请日： | 2013-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN104769161A | 公开（公告）日： | 2015-07-08 |
| 发明（设计）人： | A·F·古拉 | 申请（专利权）人： | 德诺拉工业有限公司 |
| 主分类号： | C25B1/13 | 分类号： | C25B1/13;C25B1/26;C25B1/30;C25B11/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李英 |
| 地址： | 意大*** | 国省代码： | 意大利;IT |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于产生未分离的产物的配备有微电极的电解槽及其获得方法。使用用于制备微机电系统(MEMS)的技术获得本发明的槽和微电极。阳极微电极和阴极微电极具有电催化涂层并且以小于300微米的电极间间隙彼此插入。 | ||
| 搜索关键词： | 配备 微电极 电解槽 | ||
【主权项】：
用于产生未分离的阳极产物和阴极产物的电解槽，由可光刻图案的具有表面的衬底组成，多个阳极微电极和阴极微电极在所述表面上形成，所述阴极微电极和阳极微电极以小于100微米的电极间间隙彼此插入并且具有小于0.05μm的平均表面粗糙度Ra。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德诺拉工业有限公司，未经德诺拉工业有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380057692.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于电解析氢的阴极
- 下一篇：蚀刻液、补给液及铜配线的形成方法
