[发明专利]具有单独构图的各向异性的元件的快速生成有效
| 申请号： | 201380028208.8 | 申请日： | 2013-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN104364682B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | K·施米特;H·塞伯勒 | 申请（专利权）人： | 罗利克有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B27/28 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及允许生产具有单独构图的各向异性性能的元件的装置，其中该图像在不同元件上发生变化。根据本发明的装置包括基底用载体和提供具有第一偏振面的空间调制的配向光的曝光单元，其中该曝光单元含有光源，可电子控制，例如通过计算机控制的空间光调制器，和投影透镜。本发明此外涉及使用这一装置，快速生产具有单独构图的各向异性性能的元件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 各向异性性能 曝光单元 空间光调制器 计算机控制 成本发明 电子控制 空间调制 快速生产 投影透镜 基底 配向 偏振 光源 图像 生产 | ||
【主权项】：
1.用于生产具有单独构图的各向异性性能的元件的装置(30，40，60，70，90)，它包括：基底用载体(37，47,64，65，74，75)和提供具有第一和第二偏振面的空间强度调制的配向光的曝光单元(10，20，31，41，61，71)，其中该曝光单元含有光源(11，22)，可电子控制的空间光强度调制器(12，21)，偏振器，和投影透镜(13，23)，其中偏振器排列在空间光强度调制器和该载体上的基底设计位置之间和可电子控制偏振面的改变。
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