[实用新型]一种镭射加热装置有效
申请号: | 201320833567.8 | 申请日: | 2013-12-17 |
公开(公告)号: | CN203613219U | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 黄运烘 | 申请(专利权)人: | 昆山山森电子科技有限公司 |
主分类号: | C21D1/09 | 分类号: | C21D1/09 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种镭射加热装置,其包括基板,基板上安装有若干镭射源。基板的一侧面开设有凹槽,凹槽的两个相对侧壁为斜面,基板的另一相对侧面包括两个安装面及连接两个安装面的平面,两个安装面分别与凹槽的两个斜面平行,两个安装面位于基板的相对两侧上且开设有安装若干镭射源的若干安装通孔,两个斜面为若干镭射源的出光面。若干镭射源布局成两排镭射源组,每排镭射源组中的镭射源呈直线排列,若干镭射源分别安装在两个安装面的相应安装通孔上,且两排镭射源组中的镭射源的延长线成一个预定固定角度错开排列,使若干镭射源的镭射焦点均匀不间断的交汇在成所述预定固定角度的直线上。本实用新型能够实现对工件持续、均匀加热。 | ||
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【主权项】:
一种镭射加热装置,其包括基板,所述基板上安装有若干镭射源;其特征在于:所述基板的一侧面开设有凹槽,所述凹槽的两个相对侧壁为斜面,所述基板的另一相对侧面包括两个安装面以及连接所述两个安装面的平面,所述两个安装面分别与所述凹槽的两个斜面平行,所述两个安装面位于所述基板的相对两侧上且开设有安装所述若干镭射源的若干安装通孔,所述两个斜面为所述若干镭射源的出光面;所述若干镭射源布局成两排镭射源组,每排镭射源组中的镭射源呈直线排列,所述若干镭射源分别安装在所述两个安装面的相应安装通孔上,且两排镭射源组中的镭射源的延长线成一个预定固定角度错开排列,使所述若干镭射源的镭射焦点均匀不间断的交汇在成所述预定固定角度的直线上。
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