[实用新型]用于涂覆平面基板的装置有效
申请号: | 201320732470.8 | 申请日: | 2013-09-30 |
公开(公告)号: | CN203648766U | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | E·塞佩莱宁 | 申请(专利权)人: | BENEQ有限公司 |
主分类号: | B05B15/12 | 分类号: | B05B15/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 王会卿 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用来涂覆平面基板(3)的装置。该装置包括:形成反应空间(4)的沉积室(2);至少一个雾化器(16),所述至少一个雾化器布置到沉积室(2)中用于将至少一种液体前体雾化成液滴(20);以及闸门(30,32),平面基板(3)可穿过闸门而被装载到反应空间(4)中以及从反应空间(4)移出。闸门(30,32)包括具有第一长度(A)的细长闸门开口(12),用来使平面基板(3)穿过闸门(30,32)而被装载到反应空间(4)中和/或将平面基板从反应空间卸载。闸门开口(12)横截面的形状和尺寸基本上对应于平面基板(3)横截面的形状和尺寸,以使得当基板(3)行进穿过闸门开口(12)时平面基板(3)基本上关闭闸门开口(12)。 | ||
搜索关键词: | 用于 平面 装置 | ||
【主权项】:
一种用于涂覆平面基板的装置,所述装置包括: ‑沉积室(2),所述沉积室布置用于形成反应空间(4); ‑至少一个雾化器(16),所述至少一个雾化器布置在所述沉积室(2)中,用来将在涂覆平面基板(3)时所使用的至少一种液体前体雾化成液滴(20),以及用来朝向反应空间(4)中的平面基板(3)的表面引导所述液滴(20); ‑闸门,所述平面基板穿过所述闸门从沉积室(2)的外部(5)被引入到所述反应空间(4)中和/或从所述反应空间(4)移出并且移到所述沉积室(2)的外部(5), 其特征在于,闸门包括具有第一长度(A)的闸门开口(12),用来将所述平面基板(3)穿过所述闸门引入到所述反应空间(4)中和/或从所述反应空间(4)移出,所述闸门开口(12)的横截面的形状和尺寸基本上对应于所述平面基板(3)的横截面的形状和尺寸,以使得当所述平面基板(3)穿过所述闸门开口(12)时所述平面基板(3)基本上关闭所述闸门开口(12)。
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