[实用新型]抗反射膜、使用其的光学部件和光学仪器有效
| 申请号： | 201320569682.9 | 申请日： | 2013-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN203643625U | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 藤井秀雄;竹友裕树 | 申请（专利权）人： | 理光映像有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟;唐瑞庭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种抗反射膜、使用其的光学部件和光学仪器。所述抗反射膜为，在基材的表面上从基材侧顺序层压第1层～第9层而形成的抗反射膜，第2层、第4层、第6层和第8层为由对于波长587.56nm的He光源的d线呈现2.21以上且2.70以下的折射率的高折射率材料形成的高折射率层，第1层、第3层、第5层和第7层为由对于上述d线呈现1.40以上且不足1.55的折射率的中间折射率材料形成的中间折射率层，第9层为由对于上述d线呈现1.35以上且不足1.40的折射率的低折射率材料形成的低折射率层，所述抗反射膜对于可见区的波长范围390～720nm的光的反射率在0.2%以下。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 使用 光学 部件 光学仪器 | ||
【主权项】：
一种抗反射膜，其特征在于，其为在基材的表面上从上述基材侧顺序层压第1层～第9层而形成的抗反射膜，第2层、第4层、第6层和第8层为由对于波长587.56nm的He光源的d线呈现2.21以上且2.70以下的折射率的高折射率材料形成的高折射率层，第1层、第3层、第5层和第7层为由对于上述d线呈现1.40以上且不足1.55的折射率的中间折射率材料形成的中间折射率层，第9层为由对于上述d线呈现1.35以上且不足1.40的折射率的低折射率材料形成的低折射率层，所述抗反射膜对于可见区的波长范围390～720nm的光的反射率在0.2%以下。
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