[实用新型]基于介电泳效应的摆动式研磨/抛光设备

摘要

一种基于介电泳效应的摆动式研磨/抛光设备，包括机架、安装在机架上的抛光盘、摆杆、工件夹具和抛光液输入器，摆杆与工件夹具相连，工件夹具置于的抛光盘上方，待抛光的工件装夹在的工件夹具的底面，抛光盘安装在驱动主轴上，驱动主轴与驱动电机连接；抛光盘上安装第一电极板，第一电极板与交流电源的第一引出端连接，工件夹具上安装第二电极板，第二电极板与交流电源的第二引出端连接；交流电源的电流输入端与用于控制的交流电源的电压与频率的调频调压控制器连接。本实用新型有效减缓抛光液和磨粒受离心力作用从加工区域甩出问题、抛光液在加工区域分布较均匀、提升抛光效率、提高抛光精度。

主权项

一种基于介电泳效应的摆动式研磨/抛光设备，包括机架、安装在机架上的抛光盘、摆杆、工件夹具和抛光液输入器，所述摆杆与所述的工件夹具相连，所述工件夹具置于所述的抛光盘上方，待抛光的工件装夹在所述的工件夹具的底面，所述抛光盘安装在驱动主轴上，所述驱动主轴与驱动电机连接，其特征在于：所述的抛光盘上安装第一电极板，所述第一电极板与交流电源的第一引出端连接，所述工件夹具上安装第二电极板，所述第二电极板与所述交流电源的第二引出端连接；所述的交流电源的电流输入端与用于控制所述的交流电源的电压与频率的调频调压控制器连接。