[实用新型]用于清洗工艺腔的背板以及工艺腔的清洗装置有效
申请号: | 201320351011.5 | 申请日: | 2013-06-19 |
公开(公告)号: | CN203284460U | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 张宇;杨远江;黄斗冬 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型实施例公开了一种用于清洗工艺腔的背板以及设有该背板的工艺腔的清洗装置,属于显示技术领域。解决了现有技术中位于工艺腔的角落的薄膜难以被清洗干净的问题。该背板呈矩形,所述背板的中间设置有进气口,所述背板的四个角也均设置有进气口。该工艺腔的清洗装置包括气体发生器和上述的背板,所述气体发生器的出气口与所述背板上的各个进气口相连通。本实用新型应用于CVD工艺腔的清洗。 | ||
搜索关键词: | 用于 清洗 工艺 背板 以及 装置 | ||
【主权项】:
一种用于清洗工艺腔的背板,所述背板呈矩形,所述背板的中间设置有进气口,其特征在于:所述背板的四个角也均设置有进气口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的