[发明专利]基于多相位中心观测约束优化的微波三维成像方法有效
申请号: | 201310699688.2 | 申请日: | 2013-12-18 |
公开(公告)号: | CN103616689A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 洪文;王彦平;谭维贤;彭学明;林赟;丁赤飚 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电子学研究所 |
主分类号: | G01S13/90 | 分类号: | G01S13/90;G01S7/40 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于多相位中心观测约束优化的微波三维成像方法,包括:步骤A:由多相位中心对目标进行成像,并对成像后接收到的目标回波信号进行预处理;步骤B:对预处理后的回波信号进行距离衰减因子补偿和天线方向图校正处理;步骤C:采用观测约束优化方法对所述补偿和校正后的回波信号进行处理;步骤D:从步骤C的处理结果中提取观测区域三维微波散射图像、观测区域场景三维数字表面模型或观测区域场景正射投影微波图像。该方法对不同采样约束和不同相位中心数目条件下,适用于合成孔径统一球观测几何描述的微波三维成像。 | ||
搜索关键词: | 基于 多相 中心 观测 约束 优化 微波 三维 成像 方法 | ||
【主权项】:
一种基于多相位中心观测约束优化的微波三维成像方法,其特征在于,包括:步骤A:由多相位中心对目标进行成像,并对成像后接收到的目标回波信号进行预处理;步骤B:对预处理后的回波信号进行距离衰减因子补偿和天线方向图校正处理;步骤C:采用观测约束优化方法对所述补偿和校正后的回波信号进行处理;步骤D:从步骤C的处理结果中提取观测区域三维微波散射图像、观测区域场景三维数字表面模型或观测区域场景正射投影微波图像。
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