[发明专利]基于多相位中心观测约束优化的微波三维成像方法有效

专利信息
申请号: 201310699688.2 申请日: 2013-12-18
公开(公告)号: CN103616689A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: 洪文;王彦平;谭维贤;彭学明;林赟;丁赤飚 申请(专利权)人: 中国科学院电子学研究所
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90;G01S7/40
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于多相位中心观测约束优化的微波三维成像方法,包括:步骤A:由多相位中心对目标进行成像,并对成像后接收到的目标回波信号进行预处理;步骤B:对预处理后的回波信号进行距离衰减因子补偿和天线方向图校正处理;步骤C:采用观测约束优化方法对所述补偿和校正后的回波信号进行处理;步骤D:从步骤C的处理结果中提取观测区域三维微波散射图像、观测区域场景三维数字表面模型或观测区域场景正射投影微波图像。该方法对不同采样约束和不同相位中心数目条件下,适用于合成孔径统一球观测几何描述的微波三维成像。
搜索关键词: 基于 多相 中心 观测 约束 优化 微波 三维 成像 方法
【主权项】:
一种基于多相位中心观测约束优化的微波三维成像方法,其特征在于,包括:步骤A:由多相位中心对目标进行成像,并对成像后接收到的目标回波信号进行预处理;步骤B:对预处理后的回波信号进行距离衰减因子补偿和天线方向图校正处理;步骤C:采用观测约束优化方法对所述补偿和校正后的回波信号进行处理;步骤D:从步骤C的处理结果中提取观测区域三维微波散射图像、观测区域场景三维数字表面模型或观测区域场景正射投影微波图像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院电子学研究所,未经中国科学院电子学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310699688.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top