[发明专利]一种渐变式间距的石墨舟有效
| 申请号： | 201310667675.7 | 申请日： | 2013-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN103614708A | 公开（公告）日： | 2014-03-05 |
| 发明（设计）人： | 胡金艳;韩玮智;王仕鹏;黄海燕;陆川 | 申请（专利权）人： | 浙江正泰太阳能科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 | 代理人： | 冯谱 |
| 地址： | 310053 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种渐变间距式的石墨舟，所述石墨舟包含有多片平行设置的石墨片；从所述石墨舟的中心到所述石墨舟的外侧，相邻两片石墨片之间的间距依次为D0、D1……Dn-1、Dn；所述D0、D1……Dn-1、Dn之间的大小关系为：D0>D1>……>Dn-1>Dn；且D0-D1=D1-D2=……=Dn-1-Dn=a（a>0），a为相邻两石墨片之间的距离差。相应的，本发明还提供一种使用该石墨舟对硅片进行镀膜的方法。采用本发明提供的技术方案，可以有效解决经石墨舟镀膜后，减反膜膜厚不均匀的问题，提高产品的合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 渐变 间距 石墨 | ||
【主权项】：
一种渐变式间距的石墨舟，所述石墨舟包含有多片平行设置的石墨片；其特征在于：从所述石墨舟的中心到所述石墨舟的外侧，相邻两片石墨片之间的间距依次为D0、D1……Dn‑1、Dn；所述D0、D1……Dn‑1、Dn之间的大小关系为：D0>D1>……>Dn‑1>Dn；且D0‑D1=D1‑D2=……=Dn‑1‑Dn=a（a>0），a为相邻两石墨片之间的距离差。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
