[发明专利]基于荧光发射抑制机理的随机定位超分辨显微方法及装置有效
| 申请号： | 201310593816.5 | 申请日： | 2013-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN103592278A | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | 李旸晖;金尚忠;袁琨;金杯洲 | 申请（专利权）人： | 中国计量学院;杭州彩谱科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于荧光发射抑制机理的随机定位超分辨显微方法及装置，该方法包括：将同轴共路的激发光和抑制光同时聚焦在样品上，样品上具有受激荧光发射特性的位置随机出射荧光，收集荧光信号，生成稀疏荧光分布图像，对衍射斑进行单分子定位，将不同的荧光分子定位图像经图像合成后即得。该装置包括：第一激光光源、第二激光光源、反射镜、第一二色镜、科勒镜组、第二二色镜、显微物镜、样品、滤光片、场镜、目镜、宽场感光元件以及计算机。本发明的分辨率精细度高，可以获取横向20nm的超分辨图像；结构简单，成本低廉；减小了强激光或荧光漂白对于样品的非可逆损害，增强了样品的重复利用率；功能扩展性强。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 荧光 发射 抑制 机理 随机 定位 分辨 显微 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基于荧光发射抑制机理的随机定位超分辨显微方法，其特征在于，包括以下步骤：1）将同轴共路的激发光和抑制光同时聚焦在样品上；2）在激发光和抑制光的共同作用下，样品上具有受激荧光发射特性的位置随机出射荧光，产生荧光信号；3）收集荧光信号，生成稀疏荧光分布图像；4）对稀疏荧光分布图像上的衍射斑进行单分子定位，生成荧光分子定位图像；5）重复步骤3）和4），得到不同的荧光分子定位图像，经图像合成后得到样品的超分辨显微图像。
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