[发明专利]一种硅纳米线薄膜电池及其制备方法无效
申请号: | 201310585523.2 | 申请日: | 2013-11-19 |
公开(公告)号: | CN103579404A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 张晓东;曾湘波;谢小兵;杨萍;李浩;王启明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/075 | 分类号: | H01L31/075;H01L31/0224;H01L31/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅纳米线薄膜电池及其制备方法。电池包括衬底(1)和形成在衬底(1)上的硅纳米线层(2),硅纳米线层(2)由多个长度方向垂直于衬底(1)表面的硅纳米线构成,在每个硅纳米线的外侧依次形成有背电极薄膜层(2a)、掺杂型硅薄膜层(2b)、活性层硅薄膜(3)、掺杂型硅薄膜(4)和透明导电膜(5)。本发明能获得具有很好陷光效果及真正实现载流子径向收集,进而提高转换效率的硅纳米线薄膜电池,同时电池的制备过程简便易行,具有低成本可规模化生产的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 薄膜 电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种硅纳米线薄膜电池,包括衬底(1)和形成在衬底(1)上的硅纳米线层(2),所述硅纳米线层(2)由多个长度方向垂直于衬底(1)表面的硅纳米线构成,在所述每个硅纳米线的外侧依次形成有活性层硅薄膜(3)、掺杂型硅薄膜(4)和透明导电膜(5),其特征在于:在所述硅纳米线层(2)的每个硅纳米线与所述活性层硅薄膜(3)之间,从内至外依次还包括背电极薄膜层(2a)和掺杂型硅薄膜层(2b)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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