[发明专利]一种消除钨离子交换工艺中SnS32-危害的方法无效

专利信息
申请号: 201310407636.3 申请日: 2013-09-09
公开(公告)号: CN103484672A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 董海刚;王亚雄;黄迎红;黄宗凯;卢兴伟;赵家春;黄兴;范兴祥;吴跃东;山晶晶 申请(专利权)人: 昆明贵金属研究所
主分类号: C22B3/12 分类号: C22B3/12;C01G41/00
代理公司: 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 代理人: 赛晓刚
地址: 650106 云南省昆明市高新*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种以高锡钨精矿为原料制备APT过程中,有效消除离子交换前液中SnS32-的方法。在进行高压碱浸过程中,通入氧气并使高压釜保持一定的氧压,可使高锡钨精矿中的黝锡矿(Cu2FeSnS4)碱溶解后形成的SnS32-转化成吸附能力较WO42-弱的SnO32-,从而使锡在进行离子交换过程中与钨实现高效分离,减少产品中锡的危害。本发明不仅能够一步实现消除钨酸钠离子交换前液中SnS32-危害的作用,同时可减少传统的二次氧化除锡工序,缩短了工艺流程,对降低生产成本具有重要意义。
搜索关键词: 一种 消除 离子交换 工艺 sns sub sup 危害 方法
【主权项】:
一种消除钨离子交换工艺中SnS32‑危害的方法,其特征在于:在对所述的高锡钨精矿进行高压浸出时,同时通入氧气并保持一定的氧压,使进入浸出液的SnS32‑被同时氧化成吸附能力较WO42‑弱的SnO32‑,然后采用传统的离子交换除锡方法使锡与钨分离,具体步骤为: (1)将高锡钨精矿磨碎到‑320目达到98%以上; (2)在碱浸温度150℃、浸出时间2.5h,氢氧化钠用量为理论量的2.5倍,在至少0.2~0.4mpa的氧压条件下高压氧浸,于高压釜中浸出磨细过的高锡钨精矿; (3)抽滤并洗涤浸出渣; (4)采用传统的离子交换除锡方法使锡与钨分离。 
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