[发明专利]硅电池上生长氮镓铟系的三结太阳能电池在审

专利信息
申请号: 201310335019.7 申请日: 2013-08-01
公开(公告)号: CN104347747A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 张启明;王帅;高鹏;吴艳梅;刘如彬;孙强;肖志斌 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十八研究所
主分类号: H01L31/0687 分类号: H01L31/0687;H01L31/0224
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 李凤
地址: 300384 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种硅电池上生长氮镓铟系的三结太阳能电池,自下至上包括Si底电池、InxGa1-xN第一电池和InyGa1-yN第二电池;所述底电池的p-Si层上面至第一电池之间依次有AlN成核层和GaN缓冲层,第一电池和第二电池之间有隧道结,其特点是:所述底电池衬底下面制有负电极;第二电池上面制有半透明电流扩展层、半透明电流扩展层上制有正电极。本发明由于在底电池衬底下面直接蒸镀负电极,简化了工艺,降低了成本,还可当做反射镜使用,充分利用了太阳光谱、电池总转换效率可达40%以上;通过蒸镀半透明电流扩展层,加强了正电极对载流子的收集,提高了电池的抗辐射能力,延长了电池的使用寿命。
搜索关键词: 电池 生长 氮镓铟系 太阳能电池
【主权项】:
硅电池上生长氮镓铟系的三结太阳能电池,自下至上包括Si底电池、InxGa1‑xN第一电池和InyGa1‑yN第二电池,Si底电池由n‑Si衬底和p‑Si层构成;所述p‑Si层上面至InxGa1‑xN第一电池之间依次有AlN成核层和GaN缓冲层,InxGa1‑xN第一电池和InyGa1‑yN第二电池之间有隧道结,其特征在于:所述n‑Si衬底下面制有负电极;所述InyGa1‑yN第二电池上面制有半透明电流扩展层、半透明电流扩展层上制有正电极。
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