[发明专利]一种高响应度的AlGaN基量子阱红外探测器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310251280.9 申请日: 2013-06-24
公开(公告)号: CN103346197A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 张骏;鄢伟一;田武;吴峰;戴江南;陈长清 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L31/101 分类号: H01L31/101;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 江西省专利事务所 36100 代理人: 胡里程
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开一种高响应度的AlGaN基量子阱红外探测器及其制备方法,该探测器结构包括蓝宝石衬底;在蓝宝石衬底上依次生长的低温AlN成核层、高温AlN缓冲层、本征AlGaN层、n型AlGaN下接触层、AlGaN/GaN多量子阱层以及n型AlGaN上接触层;n型AlGaN上接触层之上的二维金属光栅层。本发明的优点在于:利用Plasmon近场增强效应,在表面形成电场方向平行于量子阱生长方向的电子、光子耦合共振波,提高量子阱对正入射光的吸收能力,从而提升红外探测器的探测效率。同时,利用Plasmon增强耦合光栅的选频特性,实现信号的滤波,降低噪声的影响,减少暗电流,增强红外探测器的灵敏度。
搜索关键词: 一种 响应 algan 量子 红外探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种高响应度的AlGaN基量子阱红外探测器,其特征在于:该探测器结构包括蓝宝石衬底;在蓝宝石衬底上依次生长的低温AlN成核层、高温AlN缓冲层、本征AlGaN层、n型AlGaN下接触层、AlGaN/GaN多量子阱层以及n型AlGaN上接触层;n型AlGaN上接触层之上的二维金属光栅层。
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