[发明专利]一种具有滤光功能的微透镜阵列及其制备方法有效
| 申请号： | 201310092620.8 | 申请日： | 2013-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN103217728A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 邸思;金建;姚豫培;陈贤帅;杜如虚 | 申请（专利权）人： | 广州中国科学院先进技术研究所 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B5/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 刘新年 |
| 地址： | 511458 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有滤光功能的微透镜阵列及其制备方法，属于光学领域。所述方法包括：在基底上制备不同的滤光区域；将基底进一步曝光；在基底上光刻出圆柱形图案；利用光刻胶热熔法，制备微透镜阵列。本发明通过颜色光阻剂结合传统的光刻法，利用掩膜板的对准标记，在基底上制作好具有滤光功能的滤光区域，然后直接在该区域以热熔法制作微透镜阵列，使得该微透镜集成滤光功能，减少了一层滤光片结构，集成度高，有利于提高成像质量，同时也避免了滤光片与微透镜阵列对准集成的问题。并且可以应用于多谱成像系统中，实现单色成像和彩色重构，并大大降低系统复杂度和成本，制作工艺简单，工艺新颖，成功率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 滤光 功能 透镜 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种微透镜阵列制备方法，其特征在于，所述方法至少包括： 在基底上制备不同的滤光区域； 将基底进一步曝光； 在基底上光刻出圆柱形图案； 利用光刻胶热熔法，制备微透镜阵列。
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