[发明专利]柔性基底薄膜表面微结构的形成方法有效

专利信息
申请号: 201310088719.0 申请日: 2013-03-19
公开(公告)号: CN103204459A 公开(公告)日: 2013-07-17
发明(设计)人: 殷雅俊;吴丹;谢惠民 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张大威
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出一种柔性基底薄膜表面微结构的形成方法,包括:绘制曲线图形并制备光刻掩膜;利用光刻掩膜,光刻石英玻璃;在图形化的石英玻璃上浇铸柔性基底预聚体,然后固化得到图形化的柔性基底并剥离;以及在图形化的柔性基底上镀金属膜。本发明在柔性基底材料表面形成曲线结构,再在基底上镀膜,由于温度变化产生热应力,曲线结构引导薄膜内的应力分布,可以通过设计不同曲率、间距和形状的曲线结构,控制褶皱屈曲发生的区域和幅度,该方法操作简单,易于实现。
搜索关键词: 柔性 基底 薄膜 表面 微结构 形成 方法
【主权项】:
一种柔性基底薄膜表面微结构的形成方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:绘制曲线图形并制备光刻掩膜;S2:利用所述光刻掩膜,光刻石英玻璃;S3:在图形化的石英玻璃上浇铸柔性基底预聚体,然后固化得到图形化的柔性基底并剥离;以及S4:在图形化的柔性基底上镀金属膜。
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