[发明专利]形貌控制的氧化铈颗粒和制备方法及其应用无效
申请号: | 201310028882.8 | 申请日: | 2013-01-25 |
公开(公告)号: | CN103086417A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 茅云;奚瑞华 | 申请(专利权)人: | 吴江创源新材料科技有限公司 |
主分类号: | C01F17/00 | 分类号: | C01F17/00;C09G1/02 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 李纪昌 |
地址: | 215211 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种形貌控制的氧化铈颗粒和制备方法及其应用,通过控制碱性溶液的浓度从而进一步控制所生成的氧化铈颗粒的粒度和形状;根据抛光过程阶段对磨量和划伤缺陷的不同要求,将形貌控制的氧化铈颗粒组合起来配方成适应不同抛光过程阶段的抛光液,本发明配制的抛光液特别适用于90纳米以下的半导体器件浅沟隔离技术中抛光工艺的应用,由于形貌的可控性使得可选择特定形貌的颗粒满足化学机械平整化特定阶段的要求,使半导体器件浅沟渠隔离制造工艺中的化学机械平整化达到既保持抛光的去除率又能降低抛光后的划伤缺陷,从而提高了器件浅沟隔离工艺的成品率。 | ||
搜索关键词: | 形貌 控制 氧化 颗粒 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种形貌控制的氧化铈颗粒的制备工艺,其特征在于:所述形貌控制的氧化铈颗粒是由下列步骤制备的:第一步:将含铈的化合物配制成含铈水相溶液,搅拌均匀,所述含铈的化合物采用硝酸铈、碳酸铈或硫酸铈中的一种或多种混合物,所述含铈水相溶液的铈离子摩尔浓度为0.1‑1.0M;第二步:将上述搅拌均匀的含铈水相溶液与碱性溶液体系边搅拌边均匀地混合,所述碱性溶液体系的氢氧离子摩尔浓度为0.01‑10M,体积为上述含铈水相溶液的6‑8倍,所述碱性溶液体系为氢氧化钠溶液或氢氧化钾溶液;第三步:将上述混合均匀的溶液在常温常压或水热法条件下升温至100℃,生成氧化铈或氧化铈前体,所述常温常压为温度24.5‑25.5 ℃,压强为608‑912毫米汞柱;第四步:将上述生成的氧化铈或氧化铈前体先过滤分离,再依次用去离子水和乙醇洗涤,最后在空气中烘干,烘干温度为60℃,烘干后在空气中进行煅烧2‑4h,煅烧温度为400‑600℃,自然冷却至室温。
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