[发明专利]一种利用空间位阻制备均相混合自组装单分子膜的方法

摘要

本发明公开了一种利用空间位阻制备均相混合自组装单分子膜的方法，该方法首先在羟基化的基底上制备烷基乙氧基硅烷自组装单分子膜，再将制备好的基底放入烘箱中，在100-120℃下保存2-5小时，然后在体积比为1-8：1的乙醇/水混合液中保存5-60分钟，取出并吹干后，再放入分子头基较小的烷基三氯硅烷或烷基磷酸有机溶液中反应20-60分钟，反应后放入烘箱中，在100-120℃下保存2-5小时后取出，最后，分别用丙醇、氯仿、异丙醇超声清洗，得到所述均相混合自组装单分子膜。本发明操作简单，形成的混合自组装单分子膜表面光滑，性质均一。

主权项

一种利用空间位阻制备均相混合自组装单分子膜的方法，其特征在于，该方法具体为：（1）室温下（5‑25℃），将已经羟基化的基底放入反应器中，配制0.05‑4×10‑3mol/L烷基乙氧基硅烷有机溶液并倒入反应器中，反应液至少要淹没基底，密封反应20‑120分钟后取出，用反应液所用溶剂缓缓冲洗以除去物理吸附的偶联剂聚合物，氮气吹干即得表面具有均匀的单分子膜的基底；（2）将基底放入烘箱中，在100‑120℃下保存2‑5小时后取出，再放入体积比为1‑8：1的乙醇和水混合液中，乙醇和水混合液至少淹没基底，保存5‑60分钟后取出，氮气吹干；（3）室温下（5‑25℃），将基底放入反应器中，配制浓度为0.05‑4×10‑3mol/L的烷基三氯硅烷有机溶液或烷基磷酸有机溶液，将反应液倒入反应器中，反应液至少淹没基底，密封反应20‑120分钟后取出，用反应液所用溶剂缓缓冲洗，冲洗后吹干，再放入烘箱中，在100‑120℃下保存2‑5小时后取出，依次用丙醇、氯仿、异丙醇超声洗，除去物理吸附的联偶剂聚合物，氮气吹干后即得均相混合自组装单分子膜。