[发明专利]用于阻挡膜的涂层及制备和使用其的方法

摘要

本发明公开了一种阻挡膜，其包括基底、施加在基底的主表面上的基础(共)聚合物层、施加在基础(共)聚合物层上的氧化物层和施加在氧化物层上的保护性(共)聚合物层。所述保护性(共)聚合物层作为第一(甲基)丙烯酰化合物和源自第二(甲基)丙烯酰化合物与氨基硅烷之间的迈克尔反应的(甲基)丙烯酰基‑硅烷化合物的反应产物形成。所述第一(甲基)丙烯酰化合物和第二(甲基)丙烯酰化合物可相同。在一些实施例中，可使用氧化物层与保护性(共)聚合物层的多个交替的层。可在顶部保护性(共)聚合物层上施加氧化物层。在一些实施例中，所述阻挡膜提供增强的防潮性和保护性(共)聚合物层对下面层的改善的剥离粘附强度。本发明还描述了一种制备阻挡膜的方法以及使用所述阻挡膜的方法。

主权项

一种阻挡膜，其包括：基底；在所述基底的主表面上的基础均聚物或共聚物层；在所述基础均聚物或共聚物层上的氧化物层；以及在所述氧化物层上的保护性均聚物或共聚物层，其中所述保护性均聚物或共聚物层包含作为以下物质的反应产物形成的均聚物或共聚物：第一(甲基)丙烯酰化合物，和源自第二(甲基)丙烯酰化合物与氨基硅烷之间的迈克尔反应的(甲基)丙烯酰基‑硅烷化合物，任选地其中所述第一(甲基)丙烯酰化合物与所述第二(甲基)丙烯酰化合物相同，其中所述(甲基)丙烯酰基‑硅烷化合物由下式表示：(Rm)x‑R1‑(R2)y其中x和y各自独立地为至少1；Rm为包含式–X2‑C(O)C(R3)＝CH2的(甲基)丙烯酰基基团，其中X2为‑O、‑S或–NR3，其中R3为H或C1‑C4；R1为共价键、多价亚烷基、聚环亚烷基或环亚烷基、杂环基、或亚芳基基团或它们的组合，所述亚烷基基团任选地含有一个或多个链中氧或氮原子，或羟基侧基；R2为含硅烷基团，其源自氨基硅烷与下式的丙烯酰基团之间的迈克尔反应：–X2‑C(O)CH2CH2‑N(R4)‑R5‑Si(Yp)(R6)3‑p其中：X2为‑O、‑S或–NR3，其中R3为H或C1‑C4烷基，R4为C1‑C6烷基或环烷基或‑R5‑Si(Yp)(R6)3‑p或(Rm)x‑R1‑X2‑C(O)‑CH2CH2‑，R5为二价亚烷基基团，所述亚烷基基团任选地含有一个或多个链中氧或氮原子，Y为可水解基团，其选自烷氧基基团、乙酸根基团、芳氧基基团和卤素，R6是单价烷基或芳基基团，并且p为1、2或3。