[发明专利]投影子系统在审
| 申请号： | 201280039964.6 | 申请日： | 2012-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN103748503A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·J·维勒特;克雷格·R·沙尔特;大卫·J·W·奥斯吐恩 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/28 | 分类号： | G02B27/28;H04N9/31 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 顾红霞;彭会 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了投影子系统。更具体地讲，本发明描述了包括光源和偏振分束器的投影子系统。目前描述的投影子系统的偏振分束器即使在暴露于大剂量的入射光之后也能够避免性能降低。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 子系统 | ||
【主权项】：
一种投影子系统，包括：光源，所述光源发射包括蓝光的光；和偏振分束器，所述偏振分束器接收来自所述光源的光，所述偏振分束器包括：反射型偏振器，来自所述光源的光入射到所述反射型偏振器上；第一覆盖件，所述第一覆盖件定位在所述反射型偏振器和所述光源之间，所述第一覆盖件包含塑料；和第二覆盖件，所述第二覆盖件定位在所述反射型偏振器的与所述第一覆盖件相背对的表面上，所述第二覆盖件包含塑料；其中所述偏振分束器表现出传播穿过所述偏振分束器的光的测量的b*黄度指数，并且所述b*黄度指数从所述偏振分束器第一次暴露直到所述偏振分束器暴露于0.3MJ/mm2的蓝光的剂量之后变化小于2.0，并且其中输出光以大于50流明的强度从所述投影子系统投射。
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