[发明专利]成像系统探测器校准有效

专利信息
申请号: 201280034114.7 申请日: 2012-07-12
公开(公告)号: CN103648391A 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: R·卡尔米 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种系统(100),包括固定机架(102)和旋转机架(104),其中所述旋转机架由所述固定机架能旋转地支撑。所述旋转机架(104)包括发射初级辐射的初级源(110)和具有沿纵轴延伸的至少一排探测器元件(502)的探测器阵列(116)。所述初级源和所述探测器阵列定位为彼此相对位于检查区域两侧,并且所述初级辐射穿过所述初级源与所述探测器阵列之间并通过检查区域(106)的路径(112)并照射所述探测器阵列的所述至少一排探测器元件,所述至少一排探测器元件探测所述初级辐射。所述系统还包括补充源(114),其中,所述补充源被附接到所述系统的非旋转部分,并且发射辐射,所述辐射穿过所述路径的子部分并照射所述探测器阵列的所述至少一排探测器元件,所述至少一排探测器元件探测二级辐射。
搜索关键词: 成像 系统 探测器 校准
【主权项】:
一种系统(100),包括:固定机架(102);旋转机架(104),其中,所述旋转机架由所述固定机架能旋转地支撑,所述旋转机架(104)包括:初级源(110),其发射初级辐射;以及探测器阵列(116),其具有沿纵轴延伸的至少一排探测器元件(502),其中,所述初级源和所述探测器阵列被定位为彼此相对,位于检查区域两侧,并且所述初级辐射穿过处于所述初级源与所述探测器元件之间且通过检查区域(106)的路径(112)并且照射所述探测器阵列的所述至少一排探测器元件,所述至少一排探测器元件探测所述初级辐射;以及补充源(114),其中,所述补充源被附接到所述系统的非旋转部分并且发射辐射,所述辐射穿过所述路径的子部分并照射所述探测器阵列的所述至少一排探测器元件,所述至少一排探测器元件探测二级辐射。
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