[发明专利]具有特定表面形状的结构体和该结构体的制造方法无效
| 申请号： | 201280023628.2 | 申请日： | 2012-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN103534619A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 松本司;前田好广;佐藤一也 | 申请（专利权）人： | DNP精细化工股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;C08F290/06;C08F299/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;张志楠 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明发现，作为具有光的防反射性能、光的透射改良性能等的结构体所要求的条件，不仅有表面形状，而且还与表面物性相关；其课题在于提供一种特别可赋予耐表面损伤性等机械强度、污垢难附着性等的结构体、以及提供形成该特定结构体的材料；通过下述结构体，上述课题得到解决；该结构体在表面具有特定高度的凸部或特定深度的凹部，该凸部或凹部沿至少某一方向以特定平均周期存在；其特征在于，该结构体是含有(甲基)丙烯酸酯化合物的聚合性组合物通过光照射、电子射线照射和/或加热进行聚合而成的；相对于该(甲基)丙烯酸酯化合物总量，该(甲基)丙烯酸酯化合物含有53质量%以上的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；且该结构体的储能模量为特定的范围。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 特定 表面 形状 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种结构体，该结构体在表面具有平均高度为100nm以上1000nm以下的凸部、或平均深度为100nm以上1000nm以下的凹部，该凸部或凹部沿至少某一方向以平均周期50nm以上400nm以下存在；其特征在于，该结构体是含有(甲基)丙烯酸酯化合物的聚合性组合物通过光照射、电子射线照射和/或加热进行聚合而成的；相对于该(甲基)丙烯酸酯化合物总量，该(甲基)丙烯酸酯化合物含有53质量%以上的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；且该结构体在25℃的储能模量为2GPa以下和/或在180℃的储能模量小于0.5GPa。
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