[发明专利]玻璃基材表面清洁设备和玻璃基材表面清洁方法无效
| 申请号： | 201280010892.2 | 申请日： | 2012-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN103402657A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 大石道广 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/04 | 分类号： | B08B1/04;B08B11/04;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有清洁功能的玻璃基材表面清洁设备和方法，其可应用于存在于玻璃基材上的杂质。玻璃基材表面清洁设备(100)包括玻璃基材支撑和传送机构(20)，所述玻璃基材支撑和传送机构(20)在第一方向(图3中的M)上支撑并传送玻璃基材(50)。所述设备也包括具有清洁带(11)的玻璃基材表面清洁机构(10)，所述清洁带(11)去除粘附至玻璃基材的表面的杂质(300)，并在与所述第一方向相交的第二方向(图3中的N)上在玻璃基材的表面上滑动。所述清洁带包括多个三维结构化研磨凸起(70)和位于所述三维结构化研磨凸起之间的凹槽(60)。凹槽的宽度(62)宽于粘附至玻璃基材的杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 基材 表面 清洁 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种玻璃基材表面清洁设备，其包括：玻璃基材载体，所述玻璃基材载体支撑玻璃基材；传送机构，所述传送机构在第一方向上传送玻璃基材；和玻璃基材清洁机构，所述玻璃基材清洁机构包括清洁带，所述清洁带去除粘附至玻璃基材的表面的杂质，并在与所述第一方向相交的第二方向上在玻璃基材的表面上滑动；其中所述清洁带包括在其表面上的多个三维结构化研磨凸起以及位于所述三维结构化研磨凸起之间的凹槽；和其中所述凹槽的宽度宽于粘附至玻璃基材的表面的杂质的外部宽度尺寸。
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