[发明专利]干式清洁机架、干式清洁装置和干式清洁系统有效
| 申请号： | 201280009966.0 | 申请日： | 2012-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN103402658A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 渕上明弘;冈本洋一;塚原兴治;村田省蔵;种子田裕介 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | B08B7/02 | 分类号： | B08B7/02;B08B5/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张祥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种干式清洁机架（4），用于通过使清洁介质（5）与清洁目标（20）碰撞来清洁清洁目标（20），清洁介质（5）通过空气流吹送，干式清洁机架包括：内部空间（26），清洁介质（5）在该内部空间中飞行；开口部件（18），与清洁目标（20）接触以便清洁介质（5）与清洁目标（20）相撞；进气导管（24A），将外界空气引入内部空间（26）中；抽吸口（8），通过抽吸引入的外界空气生成由在内部空间（26）中的循环空气流导致的第一空气流；注射口（24B），至少产生增大通过循环空气流飞行的清洁介质（5）的速度的第二空气流；和多孔单元（14），将从清洁目标（20）除去的物体传送到抽吸口（8）侧。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 机架 装置 系统 | ||
【主权项】：
一种干式清洁机架，用于通过使清洁介质与清洁目标碰撞来清洁所述清洁目标，所述清洁介质通过空气流吹送，所述干式清洁机架包括：内部空间，清洁介质在所述内部空间中飞行；开口部件，所述开口部件构造成与清洁目标接触，以便所述清洁介质与清洁目标碰撞；进气导管，所述进气导管构造成将外界空气引入到所述内部空间中；抽吸口，所述抽吸口构造成通过抽吸引入的外界空气产生第一空气流，其中，由在所述内部空间中的循环空气流产生所述第一空气流；注射口，所述注射口构造成至少产生第二空气流，所述第二空气流增大通过所述循环空气流飞行的清洁介质的速度；和多孔单元，所述多孔单元构造成将从清洁目标除去的物体传送到抽吸口侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光，未经株式会社理光许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280009966.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
