[发明专利]一种渐变折射率减反膜太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210562990.9 申请日: 2012-12-21
公开(公告)号: CN103022254A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 石强;韩玮智;牛新伟;蒋前哨;李永辉;仇展炜 申请(专利权)人: 浙江正泰太阳能科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0216
代理公司: 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 代理人: 冯谱
地址: 310053 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种渐变折射率减反膜太阳能电池制备方法,包括以下步骤:在硅片正面形成绒面;在硅片正面进行P扩散,然后去除所述硅片正面的磷硅玻璃和周边P扩散层;在所述硅片正面形成渐变折射率减反膜;在所述硅片背面形成背电极和铝背场;在所述硅片正面形成正电极。相应地,本发明还提供一种渐变折射率减反膜太阳能电池。本发明的方法以及该方法制备的太阳能电池电学性能好,衰减小。
搜索关键词: 一种 渐变 折射率 减反膜 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种渐变折射率减反膜太阳能电池制备方法,其中,包括以下步骤:a)在硅片正面形成绒面;b)在所述硅片正面进行P扩散,然后去除所述硅片正面的磷硅玻璃和周边P扩散层;c)在所述硅片正面形成渐变折射率减反膜;d)在所述硅片背面形成背电极和铝背场;e)在所述硅片正面形成正电极;其特征在于:所述步骤c)中进一步包括:c1)在所述硅片正面形成减反膜;c2)以氨气、氮气中的一种或其混合气体为注入源对所述减反膜进行N注入,通过设备调节实现N在所述减反膜中的特定注入深度和浓度;c3)进行退火,将所述减反膜中的N进一步推进到指定深度,其中,经过N注入的所述减反膜形成渐变折射率层,未经过N注入的所述减反膜称为钝化层,所述渐变折射率层和所述钝化层组成渐变折射率减反膜。
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