[发明专利]一种Sialon双晶纳米带及其制备方法无效
申请号: | 201210487457.0 | 申请日: | 2012-11-27 |
公开(公告)号: | CN102924088A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 覃春林;温广武;王鑫宇;宋亮;夏龙;王春雨;钟博 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学(威海) |
主分类号: | C04B35/599 | 分类号: | C04B35/599;C04B35/622;B82Y40/00 |
代理公司: | 威海科星专利事务所 37202 | 代理人: | 王元生 |
地址: | 264200 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种Sialon双晶纳米带及其制备方法,其是将Si-Al-O-N-C粉末与碳粉压制成圆环形预制块,在高压氮气环境下,通过化学气相沉积法生长,在圆环形预制块周围形成Sialon双晶纳米带,其厚度为10-800nm,宽度为0.1-10μm,长1-15mm。所得Sialon双晶纳米带具有其他纳米带不具备的独特性能和应用前景,比如优异的介电性能、导热性和机械强度。由于其在生长方向上具有独特的双晶结构,Sialon双晶纳米带可用于光转换,以及用于构建纳米光探测器件等。 | ||
搜索关键词: | 一种 sialon 双晶 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种Sialon双晶纳米带,其特征是:将Si‑Al‑O‑N‑C粉末与碳粉混合,碳粉占混合粉料的重量比为2‑10%;混合粉料压制成圆环形预制块,在高压氮气环境下,通过化学气相沉积法生长,在圆环形预制块上形成Sialon双晶纳米带,所述Sialon双晶纳米带具有双晶结构,其厚度为10‑800nm,宽度为0.1‑10μm ,长1‑15mm。
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