[发明专利]一种荧光硅纳米颗粒的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210374465.4 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN102851022A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 何耀 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: C09K11/02 分类号: C09K11/02;C09K11/59;B82Y15/00;B82Y20/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 常亮
地址: 215123 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种荧光硅纳米颗粒的制备方法,采用二步法制备,首先氟化氢辅助刻蚀方法制备硅纳米线,然后微波辐射方法制备水溶性荧光硅纳米颗粒。由于在微波辐射方法中使用的二元酸或者氨基酸溶液本身就能对硅纳米颗粒做亲水修饰,且得到的纳米颗粒具有很好的表面缺陷。因此通过本发明的方法制备得到的荧光硅纳米颗粒具有很好的水分散性,荧光量子效率高,稳定性好,可以作为荧光标记物用于生物检测和分析。
搜索关键词: 一种 荧光 纳米 颗粒 制备 方法
【主权项】:
一种荧光硅纳米颗粒的制备方法,其特征在于,包括步骤:1)氟化氢辅助刻蚀方法制备硅纳米线:首先清洗硅晶片得到干净的硅晶片;将清洗干净的硅晶片置入氟化氢溶液中进行硅‑氢化反应,得到表面覆盖硅‑氢键的硅晶片;然后将经过上述处理后所得到的硅晶片放入硝酸银和氟化氢的混合溶液中,缓慢振荡一定时间,取出后放入氟化氢和双氧水的混合液中进行反应,得到硅纳米线阵列;利用超声将硅纳米线从硅片中脱落,进而通过离心器将硅纳米线进行收集分散于水溶液中;2)微波辐射方法制备水溶性荧光硅纳米颗粒:首先将硅纳米线与二元酸或者氨基酸溶液充分搅拌混匀,在微波场加热的环境下,硅纳米线断裂成硅纳米颗粒,得到二元酸或者氨基酸修饰的且具有很好表面缺陷的发荧光的水溶性硅纳米颗粒。
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