[发明专利]一种磁控溅射用管状铌靶材的制备方法

摘要

本发明公开了一种磁控溅射用管状铌靶材的制备方法，该方法为：一、将铌铸锭锻造成圆柱状铌坯料；二、在圆柱状铌坯料中心钻通孔得到管状铌坯料，然后在所述管状铌坯料的内、外壁表面均匀涂覆抗氧化涂层；三、对涂覆有抗氧化涂层的管状铌坯料进行挤压得到铌管坯；四、对铌管坯依次进行喷砂、酸洗和机械加工，得到管状铌靶材半成品；五、对管状铌靶材半成品进行真空热处理，得到磁控溅射用管状铌靶材。采用本发明方法制备的管状铌靶材组织性能良好，沿靶材壁厚方向的晶粒均匀，晶粒度等级4～6级，晶粒尺寸不大于100μm，再结晶率不小于90%，保证了磁控溅射时镀膜的均匀一致性。

主权项

一种磁控溅射用管状铌靶材的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：步骤一、将直径为220mm～260mm的铌铸锭在温度为1000℃～1200℃条件下锻造成直径为265mm～275mm的圆柱状铌坯料；步骤二、在步骤一中所述圆柱状铌坯料中心钻出直径为49mm～51mm的通孔得到管状铌坯料，然后在所述管状铌坯料的内、外壁表面均匀涂覆抗氧化涂层；步骤三、将步骤二中涂覆有抗氧化涂层的管状铌坯料在挤压温度为900℃～1050℃、挤压比为4.1～7.6的条件下挤压成外径为140mm～170mm，内径为100mm～135mm的铌管坯；所述挤压过程中控制挤压速度为150mm/s～180mm/s；步骤四、对步骤三中所述铌管坯依次进行喷砂、酸洗和机械加工，得到外径为135mm～165mm，内径为105mm～140mm的管状铌靶材半成品；步骤五、对步骤四中所述管状铌靶材半成品进行真空热处理，得到磁控溅射用管状铌靶材；所述真空热处理的处理温度为930℃～1080℃，保温时间为100min～300min。