[发明专利]聚乙烯醇系薄膜有效
| 申请号： | 201210291704.X | 申请日： | 2008-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN102816339A | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 林哲史 | 申请（专利权）人： | 株式会社可乐丽 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L29/04;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供能有效制造起因于染色斑或延伸斑所产生的光学斑少、高性能的偏光薄膜的宽幅的聚乙烯醇系薄膜。上述聚乙烯醇系薄膜是由含有聚乙烯醇系聚合物及增塑剂的制膜原液所制膜而成的聚乙烯醇系薄膜，在该薄膜的TD方向中，相对于薄膜所含的增塑剂含量的平均值的最大含量差(Ry)为2％以下，且增塑剂含量的TD方向中变动量凹凸形的平均间隔(Sm)为5cm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 聚乙烯醇 薄膜 | ||
【主权项】：
一种聚乙烯醇系薄膜，是由含有聚乙烯醇系聚合物及增塑剂的制膜原液所制膜而成的聚乙烯醇系薄膜，其特征在于，(a)在该薄膜的TD方向中，相对于薄膜所含的增塑剂含量的平均值的最大含量差(Ry)为2％以下，且(b)在该薄膜的TD方向的增塑剂含量的变动曲线中，分别由超过增塑剂含量的平均值的峰部及邻接该峰部的谷部各1个所构成的变动量凹凸形在TD方向所占的间隔(Smi)予以平均的平均间隔(Sm)为5cm以上。
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