[发明专利]N型晶硅太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201210271346.6 | 申请日: | 2012-07-31 |
公开(公告)号: | CN102769072A | 公开(公告)日: | 2012-11-07 |
发明(设计)人: | 杨德成;郎芳;李高非;胡志岩;熊景峰 | 申请(专利权)人: | 英利集团有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;余刚 |
地址: | 071051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明提供了一种N型晶硅太阳能电池及其制备方法。该制备方法包括扩散制结、刻蚀、沉积减反射层、印刷及烧结步骤,在扩散制结步骤之前包括选择性背场的制备过程,选择性背场的制备过程包括:1)在硅片基体上扩散形成一层浅掺杂的磷背场;以及2)利用激光垂直照射磷背场上欲形成金属栅线区的区域使区域内所掺杂的磷元素富集,形成选择性背场。本发明在制备背场时只需要在硅片基体的背面制备浅掺杂的背场,节约了磷的使用量,缩短了扩散时间;采用激光照射使照射区域的磷向局部富集并向硅片基体内扩散,形成的选择性背场从活性区到金属栅线区薄层电阻逐渐降低,进而在制备金属电极时更容易形成良好的欧姆接触并获得更好的填充因子。 | ||
搜索关键词: | 型晶硅 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种N型晶硅太阳能电池的制备方法,包括扩散制结、刻蚀、沉积减反射层、印刷及烧结步骤,其特征在于,在所述扩散制结步骤之前包括选择性背场的制备过程,所述选择性背场的制备过程包括:1)、在硅片基体上扩散形成一层浅掺杂的磷背场;以及2)、利用激光垂直照射所述磷背场上欲形成金属栅线区的区域使所述区域内所掺杂的磷元素富集,形成所述选择性背场。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的