[发明专利]用于大视场X射线相衬成像的X射线源有效

专利信息
申请号: 201210265909.0 申请日: 2012-07-30
公开(公告)号: CN102768931A 公开(公告)日: 2012-11-07
发明(设计)人: 黄建衡;杜杨;牛憨笨;郭金川;刘鑫;林丹樱 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: H01J35/08 分类号: H01J35/08;H01J35/06
代理公司: 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 代理人: 易钊
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于大视场X射线相衬成像的X射线源,包括用于发射电子束的电子源和响应于电子束入射而发射X射线的阳极靶,所述阳极靶为一体结构的柱体,所述阳极靶顶端设有发射面,所述发射面由多个呈阶梯状排布且相互平行的倾斜发射面单元组成;相邻的所述发射面单元之间的阶梯间侧壁与阳极靶发射面之间的夹角α为50°-120°,且该阶梯间侧壁与阳极靶发射面的主光轴之间的夹角β为大于等于90°。本发明提供一种能应用在大视场X射线相衬成像中、克服阵列结构阳极的视场限制、制造成本低、制作工艺简单可靠的用于大视场X射线相衬成像的X射线源。
搜索关键词: 用于 视场 射线 成像
【主权项】:
一种用于大视场X射线相衬成像的X射线源,包括用于发射电子束的电子源和响应于电子束入射而发射X射线的阳极靶,其特征在于,所述阳极靶为一体结构的柱体,所述阳极靶顶端设有发射面,所述发射面由多个呈阶梯状排布且相互平行的倾斜发射面单元组成;相邻的所述发射面单元之间的阶梯间侧壁与阳极靶发射面之间的夹角α为50°‑120°,且该阶梯间侧壁与阳极靶发射面的主光轴之间的夹角β为大于等于90°。
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