[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法有效
申请号: | 201210249760.7 | 申请日: | 2012-07-18 |
公开(公告)号: | CN102751388A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 林刘毓;张准 | 申请(专利权)人: | 林刘毓;张准 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人: | 王庆海 |
地址: | 中国台湾新北*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其包括:a)在衬底上制备钼背电极;b)在该钼背电极上制备铜铟镓硒吸收层,其中使用多个溅射腔进行分步溅射来完成制备吸收层;c)进行退火处理;d)在铜铟镓硒吸收层上制备In2Se3或ZnS缓冲层;e)在所述In2Se3或ZnS缓冲层上制备本征氧化锌高阻抗层;f)在所述本征氧化锌高阻抗层上制备氧化铟锡薄膜低阻抗层;g)在氧化铟锡薄膜低阻抗层上制备铝电极。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其包括:a)在衬底上制备钼背电极;b)采用多次分步溅射方法在该钼背电极上制备铜铟镓硒吸收层:其中,采用下述溅射设备来制备吸收层:该溅射设备包括:输入平台、输入腔、N个溅射腔、卸载腔,卸载平台,其中N个溅射腔级联串在一起,输入腔的内部体积小于或等于溅射腔的内部体积,卸载腔的内部体积小于或等于溅射腔的内部体积;并且衬底从输入腔传送至第一个溅射腔内时不破坏该第一个溅射腔的真空环境,和衬底从最后一个溅射腔传送至该卸载腔时不破坏该最后一个溅射腔的真空环境,所述N个溅射腔中的每一个溅射腔内都安装一个CuInxGa1‑xSe2合金靶,以功率密度2至3W/cm2之间的任意功率密度对该合金靶溅射1至2分钟,每一个溅射腔内的工作压力均为1×10‑4Torr,腔内的衬底温度保持在200℃至450℃之间的任意温度;c)进行退火处理:在卸载腔内以快速加热方式对铜铟镓硒吸收层进行退火处理,其温度为400℃至600℃,退火时间为55至90秒,使得铜铟镓硒吸收层中的镓浓度形成梯度,其在该吸收层与钼背电极接触的一侧的浓度最高,在该吸收层的相对另一侧的浓度最低;d)在铜铟镓硒吸收层上制备In2Se3或ZnS缓冲层,其厚度为80至120纳米;e)在所述In2Se3或ZnS缓冲层上制备本征氧化锌高阻抗层,其厚度为0.1至0.5微米;f)在所述本征氧化锌高阻抗层上制备氧化铟锡薄膜低阻抗层,其厚度为0.3至0.8微米;g)在氧化铟锡薄膜低阻抗层上制备铝电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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