[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210249760.7 申请日: 2012-07-18
公开(公告)号: CN102751388A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 林刘毓;张准 申请(专利权)人: 林刘毓;张准
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 代理人: 王庆海
地址: 中国台湾新北*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其包括:a)在衬底上制备钼背电极;b)在该钼背电极上制备铜铟镓硒吸收层,其中使用多个溅射腔进行分步溅射来完成制备吸收层;c)进行退火处理;d)在铜铟镓硒吸收层上制备In2Se3或ZnS缓冲层;e)在所述In2Se3或ZnS缓冲层上制备本征氧化锌高阻抗层;f)在所述本征氧化锌高阻抗层上制备氧化铟锡薄膜低阻抗层;g)在氧化铟锡薄膜低阻抗层上制备铝电极。
搜索关键词: 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 制备 方法
【主权项】:
一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池的制备方法,其包括:a)在衬底上制备钼背电极;b)采用多次分步溅射方法在该钼背电极上制备铜铟镓硒吸收层:其中,采用下述溅射设备来制备吸收层:该溅射设备包括:输入平台、输入腔、N个溅射腔、卸载腔,卸载平台,其中N个溅射腔级联串在一起,输入腔的内部体积小于或等于溅射腔的内部体积,卸载腔的内部体积小于或等于溅射腔的内部体积;并且衬底从输入腔传送至第一个溅射腔内时不破坏该第一个溅射腔的真空环境,和衬底从最后一个溅射腔传送至该卸载腔时不破坏该最后一个溅射腔的真空环境,所述N个溅射腔中的每一个溅射腔内都安装一个CuInxGa1‑xSe2合金靶,以功率密度2至3W/cm2之间的任意功率密度对该合金靶溅射1至2分钟,每一个溅射腔内的工作压力均为1×10‑4Torr,腔内的衬底温度保持在200℃至450℃之间的任意温度;c)进行退火处理:在卸载腔内以快速加热方式对铜铟镓硒吸收层进行退火处理,其温度为400℃至600℃,退火时间为55至90秒,使得铜铟镓硒吸收层中的镓浓度形成梯度,其在该吸收层与钼背电极接触的一侧的浓度最高,在该吸收层的相对另一侧的浓度最低;d)在铜铟镓硒吸收层上制备In2Se3或ZnS缓冲层,其厚度为80至120纳米;e)在所述In2Se3或ZnS缓冲层上制备本征氧化锌高阻抗层,其厚度为0.1至0.5微米;f)在所述本征氧化锌高阻抗层上制备氧化铟锡薄膜低阻抗层,其厚度为0.3至0.8微米;g)在氧化铟锡薄膜低阻抗层上制备铝电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于林刘毓;张准,未经林刘毓;张准许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210249760.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top