[发明专利]访问设计规则和设计特征库的方法和系统有效
| 申请号： | 201210242408.0 | 申请日： | 2012-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN103093020B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 陈钦安;吴培滋;蔡宗杰;吴俊毅;丁至刚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G06F17/30 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人： | 章社杲,孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 提供了用于设计集成电路或其他半导体器件同时通过与其上显示设计布局的GUI的交互直接访问设计规则和设计特征库的系统和方法。设计规则可以直接链接至图案库的设计特征并输入设计布局。设计规则可以在设计布局的同时或者在进行设计规则检测的同时被直接访问，并且在创建布局的过程中可以使用来自图案库的设计特征。 | ||
| 搜索关键词： | 访问 设计 规则 特征 方法 系统 软件 | ||
【主权项】：
一种用于设计半导体器件的方法，所述方法包括：设计半导体器件布局以及在图形用户界面GUI上显示所述半导体器件布局；当在所述GUI上显示所述半导体器件布局时，通过与所述GUI进行交互来访问设计规则，通过与所述GUI进行交互而检查所述半导体器件布局是否符合所述设计规则；以及通过与所述GUI的交互来访问设计特征的库，并且将所述设计特征的至少一个直接输入所述半导体器件布局，其中，所述访问设计规则自动地进一步访问设计特征的所述库。
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