[发明专利]双面电极走线电容屏功能片及其加工方法有效
| 申请号： | 201210227470.2 | 申请日： | 2012-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN102799326A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 代永平;范伟;付子林 | 申请（专利权）人： | 深圳市长江力伟股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及电容屏功能片的技术领域，公开了双面电极走线电容屏功能片的加工方法，其具体步骤如下：1）提供玻璃基板，于所述玻璃基板两相对侧面上分别溅镀ITO导电层；2）于所述两层ITO导电层上分别电镀Cu导电层；3）分别光刻两层所述Cu导电层，形成Cu电极图案；4）分别光刻两层所述ITO导电层，形成ITO电极图案。上述的加工方法加工功能片，不需要在玻璃基板上进行两次溅镀工艺，大大降低了加工成本，且不需要设置钼铝钼导电层，可避免钼铝钼导电层活性问题以致难以扩大生产规模的问题，该方法中，可采用连续多层光刻工艺分别形成ITO电极图案以及Cu电极图案，极大缩短生产工艺链，缩短加工周期，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 电极 电容 功能 及其 加工 方法 | ||
【主权项】：
双面电极走线电容屏功能片的加工方法，其特征在于，加工步骤如下：1）、提供玻璃基板，于所述玻璃基板两相对侧面上分别溅镀ITO导电层；2）、于所述两层ITO导电层上分别电镀Cu导电层；3）、分别光刻两层所述Cu导电层，形成Cu电极图案；4）、分别光刻两层所述ITO导电层，形成ITO电极图案。
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