[发明专利]薄膜应力分布的检测方法无效
| 申请号： | 201210138179.8 | 申请日： | 2012-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN102818664A | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 徐强 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01L1/24 | 分类号： | G01L1/24 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭示了一种薄膜应力分布的检测方法，该薄膜应力分布的检测方法包括：利用沉积工艺，在不同的工艺参数下制成多个参考薄膜，测定每一所述参考薄膜的整体应力值和平均折光指数；根据所有参考薄膜的整体应力值和对应的平均折光指数制得标准应力值与平均折光指数关系曲线；制备待测薄膜，测量所述待测薄膜上不同位置的待检测点的折光指数，依据所述标准应力与折光指数关系曲线得到所述待测薄膜的各待检测点的应力值，并确定所述待测薄膜的应力分布。本发明仅需测量一次待测薄膜的折光指数就可获得待测薄膜的应力分布状况，有利于对薄膜沉积进行检测控制。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 应力 分布 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜应力分布的检测方法，包括：利用沉积工艺，在不同的工艺参数下制成多个参考薄膜，测定每一所述参考薄膜的整体应力值和平均折光指数；根据所有参考薄膜的整体应力值和对应的平均折光指数制得标准应力值与平均折光指数关系曲线；制备待测薄膜，测量所述待测薄膜上不同位置的待检测点的折光指数，依据所述标准应力与折光指数关系曲线得到所述待测薄膜的各待检测点的应力值，并确定所述待测薄膜的应力分布。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210138179.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种抗震救灾生活用水处理设备
- 下一篇：一种太阳能曝气装置
