[发明专利]实现显微镜系统超分辨成像的方法有效
申请号: | 201210111518.3 | 申请日: | 2012-04-16 |
公开(公告)号: | CN103377746A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 吴自玉;高昆;陈健;葛昕;王志立;王大江;潘志云 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | G21K7/00 | 分类号: | G21K7/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种实现显微镜系统超分辨成像的方法。该方法基于一包括光源、聚焦镜、物镜和图像探测器的显微镜系统,包括:搭建显微镜系统;改变显微镜系统中聚焦镜的数值孔径,采集样品的分别对应不同聚焦镜数值孔径的至少两张暗场像;在至少两张暗场像中分别提取对应像素的散射强度值,构造以聚焦镜数值孔径为自变量,以所提取的散射强度值为因变量的实验散射强度曲线;由实验散射强度曲线获得样品上瑞利分辨单元内部亚分辨尺度的微观结构信息,实现显微镜的超分辨成像。本发明具有突破显微镜系统的固有分辨率极限、并提升成像衬度的优点。 | ||
搜索关键词: | 实现 显微镜 系统 分辨 成像 方法 | ||
【主权项】:
一种实现显微镜系统超分辨成像的方法,该方法基于一包括光源、聚焦镜、物镜和图像探测器的显微镜系统,包括:搭建所述显微镜系统;改变所述显微镜系统中聚焦镜的数值孔径,采集样品的分别对应不同聚焦镜数值孔径的至少两张暗场像;在所述至少两张暗场像中分别提取对应像素的散射强度值,构造以聚焦镜数值孔径为自变量,以所提取的散射强度值为因变量的实验散射强度曲线;由所述实验散射强度曲线获得样品上瑞利分辨单元内部亚分辨尺度的微观结构信息,实现显微镜的超分辨成像。
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