[发明专利]一种超细/纳米晶梯度涂层的制备方法有效
申请号: | 201210108198.6 | 申请日: | 2012-04-13 |
公开(公告)号: | CN102605379A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 许洪斌;李晖;胡建军;陈元芳;杨长辉 | 申请(专利权)人: | 重庆理工大学 |
主分类号: | C23F17/00 | 分类号: | C23F17/00 |
代理公司: | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人: | 李海华 |
地址: | 400054 重*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明公开了一种超细/纳米晶梯度涂层的制备方法,首先利用电子束对基体材料表面进行改性,形成改性层;对改性层表面利用物理气相沉积技术制备打底过度涂层,打底过度涂层的硬度大于改性层;对打底过度涂层利用物理气相沉积技术制备得到高硬度涂层,高硬度涂层的硬度大于打底过度涂层;利用电子束改性技术对产品表面再进行照射,促进涂层间元素扩散,使打底过度涂层与改性层以及打底过度涂层与高硬度涂层间的机械结合转化为冶金结合。本发明能够优化零件的表面硬度梯度分布并提高零件表面硬度,能提高金属零件的耐磨性,涂层硬度分布合理、结合力强、表面应力状况优良。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 梯度 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种超细/纳米晶梯度涂层的制备方法,其特征在于:其步骤为:1)首先利用电子束对基体材料表面进行表面性能和表面形貌的改善,形成比基体硬度高的改性层;2)对步骤1)形成的改性层表面利用物理气相沉积技术制备和基体相容性较好的单元素打底过度涂层,打底过度涂层厚度为1‑30um,打底过度涂层的硬度大于改性层;3)对步骤2)形成的打底过度涂层利用物理气相沉积技术制备得到高硬度涂层,高硬度涂层厚度为1‑500um,高硬度涂层的硬度大于打底过度涂层;4)利用电子束改性技术对步骤3)得到的产品表面再进行照射,促进涂层间元素扩散,使打底过度涂层与改性层以及打底过度涂层与高硬度涂层间的机械结合转化为冶金结合。
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