[发明专利]真空设备的改良无效
申请号: | 201210076635.0 | 申请日: | 2012-03-21 |
公开(公告)号: | CN103320765A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 余建志;杨嘉麟;朱英珍;林赐民;许俊树;陈杏贞;袁金玉;陈长宏 | 申请(专利权)人: | 日扬电子科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/46;C23C14/22;C23C14/50 |
代理公司: | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人: | 宋缨 |
地址: | 200444 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明是指一种真空设备的改良,该真空设备具有相互连接的腔体,腔体设有腔室,腔室设有出入口及开启与封闭出入口的出入口门。而腔室下方具有承接单元,承接单元分布有滚动端子及枢转轮,其中,接近出入口门处于腔体外设有一近门滚动端子,腔体外相对近门滚动端子配置有伸缩元件,伸缩元件组件具通过近门滚动端子后伸入腔室的伸缩心轴,伸缩心轴于腔室中固定有一枢转轮。伸缩元件可控制枢转轮后缩,用以回避活动中出入口门的效果功能。 | ||
搜索关键词: | 真空设备 改良 | ||
【主权项】:
一种真空设备的改良,该真空设备具有相互连接的腔体及组装有加热装置的腔体,腔体设有腔壁,据腔壁围设形成有腔室,腔室设有互通腔体及开启对外的出入口,以及运作中可旋转开启与封闭出入口的出入口门,而腔体下方具有承接单元,承接单元于腔体外分布有相互连接的滚动端子,且腔体外设有驱动滚动端子旋转的旋动元件;而后,腔室内分布有据滚动端子轴接旋动的枢转轮,枢转轮上可输送有容纳基板的基板载部,其特征在于:该承接单元接近出入口门处于腔体外设有一近门滚动端子,腔体外于相对近门滚动端子配置的横接架,横接架固接有伸缩元件,伸缩元件具有一通过近门滚动端子中心后伸入腔室的伸缩心轴,伸缩心轴于腔室中固定有可连动回避运作中出入口门的枢转轮。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的